紧凑型 NIL-SFT 系列可快速、精确地生产用于微米和纳米压印光刻的高质量工作印模。

C&D P9000 光刻胶涂布机和显影剂集群系统设计用于处理 50mm 至 300mm 晶圆。 P9000 可配备多种不同的模块，包括多个光刻胶涂布机或显影机、蒸气底漆模块、热板和冷却板。还提供专用工艺模块，包括使用光学定心和边缘珠去除。 C&D 的 P9000 集群系统专为在较小的占地面积内实现灵活性和高吞吐量而设计。 P9000 可配置为涂布机、显影机、蒸气底涂机、烘烤机、冷却机或任何变体，并且可以处理各种光刻胶旋涂和光敏聚合物应用。

MA200 Gen3 掩模对准机专为大批量生产而设计，适用于最大 200 毫米晶圆的自动化处理。立即发现 ➤

C&D P9000 光刻胶涂布机和显影剂集群系统设计用于处理 50mm 至 300mm 晶圆。 P9000 可配备多种不同的模块，包括多个光刻胶涂布机或显影机、蒸气底漆模块、热板和冷却板。还提供专用工艺模块，包括使用光学定心和边缘珠去除。 C&D 的 P9000 集群系统专为在较小的占地面积内实现灵活性和高吞吐量而设计。 P9000 可配置为涂布机、显影机、蒸气底涂机、烘烤机、冷却机或任何变体，并且可以处理各种光刻胶旋涂和光敏聚合物应用。