EB Mask WriterEB 掩模写入器EB Mask Writer是以电子束写入控制技术为核心技术，集成了精密机械控制、大规模数据处理、激光测量技术等先进基础技术的设备。授予日期2013 年 3 月 22 日奖项名称大河内纪念制作大奖（2012年）查看详情
4Di InSpec Automated Measurement System (AMS)4Di InSpec 自动测量系统 (AMS)4Di InSpec AMS 对复杂几何形状和难以到达位置的特征和缺陷进行鉴定，比手动检查快数百倍。查看详情
4Di InSpec Surface Gauge4Di InSpec® 表面测量仪4Di InSpec 表面测量仪是一款突破性的 3D 光学测量仪，可在车间进行高分辨率、非接触式表面缺陷和特征测量。查看详情
Aspect S SystemAspect® S 系统Aspect S 系统是一款革命性的在线、非破坏性基于模型的红外反射测量系统，可实现高深宽比结构、薄膜和外延结构的关键过程控制。它以其高速度和流程覆盖满足领先客户的需求。查看详情
Aspect SystemAspect®系统Aspect 系统是一款革命性的在线、非破坏性红外光学临界尺寸 (IRCD) 系统，可测量高深宽比结构的 Z 尺寸轮廓，以实现关键过程控制。它以其高速度和流程覆盖满足领先客户的需求。查看详情
Atlas G6 SystemAtlas® G6 系统Atlas G6 系统是一款 OCD 和薄膜计量工具，专为最先进的逻辑和存储设备而设计。它旨在满足下一代人工智能应用及其他应用的需求，提供增强的光学、人工智能驱动的配方开发以及更严格的工具匹配，以实现卓越的过程控制。查看详情
Atlas V SystemAtlas® V 系统Atlas V 系统是一款用于大批量制造的 OCD 和薄膜计量工具，可实现 FinFET 和环栅 (GAA) 逻辑、DRAM 和 3D NAND 器件工艺控制。查看详情
CnCV SystemCnCV®系统CnCV 系统无需制造测试设备即可对 WBG 材料进行晶圆级表征，从而减少了时间和成本。作为 MCV 的无汞替代品，它消除了污染问题。具有紫外线辅助电晕电荷中和功能的增强型动力学 CV 模式可实现高通量和高精度，从而实现快速、可靠的过程控制。查看详情
Dragonfly G3 SystemDragonfly® G3 系统Dragonfly G3 系统正在重新设定业界对吞吐量、准确性和可靠性的期望。该系统结合了 2D 和 3D 技术，可检测影响良率的缺陷并测量对当今半导体技术至关重要的功能查看详情
