产品信息

MJB4 是用于研究和小批量生产的理想手动掩模对准器。该系统结构紧凑、易于使用且经济高效，具有可靠、高精度掩模对准和高分辨率打印能力，适用于最大 100 毫米的基材和工件。

赋予研究精确性和多功能性

MJB4 将经过验证的光刻性能与研究和小批量生产的工艺多功能性相结合。该系统支持易碎材料和 UV-NIL，其亚微米分辨率和快速基板更换使其成为一种经济高效的解决方案。

适用于各种应用的精确对准和高质量结果，灵活的曝光模式（包括软曝光、硬曝光和真空曝光）与高分辨率光学器件和 SUSS 显微镜相结合，可提供从 2 µm 到小于 0.5 µm 的分辨率。

MJB4 专为大学和小规模生产而设计，将经济性与稳定的性能结合在一起。其紧凑的设计、快速设置、配置升级和可靠的运行确保了快速的投资回报，使该系统成为敏捷研发实验室经济高效且灵活的选择。

作为首批掩模对准机之一，MJB4 平台在研究和小批量制造方面树立了行业标准。该系统配备了最先进的技术和多种配置模式，仍然是全球小型基板和工件的参考工具。

MJB4 具有直观的界面和简单的控制，专为卓越的用户友好性而设计。自动楔误差补偿 (WEC) 和用于光刻工艺的集成模拟软件简化了操作，最大限度地缩短了设置时间，并保证了最佳处理以获得最佳结果。

MJB4 掩模对准器的主要特点

MJB4 通过 MO Exposure Optics®、多种曝光模式和模块化升级提供可靠的光刻。凭借亚微米分辨率和 UV-NIL 选项，它为先进的研发和试生产提供了灵活的技术基础。

借助微透镜板，MO Exposure Optics® 可在整个曝光区域提供光均匀性并提供更大的工艺窗口，从而提高产量。远心照明将曝光光与灯源分离，节省设置和维护时间，同时确保灯在整个使用寿命期间获得一致的结果。

MJB4 配备高精度对准平台，提供顶部或红外对准，并可选择单场或分场显微镜，以实现清晰的模式识别和精确的结果。通过对非标准基板或 UV 纳米压印光刻的可选升级，该系统非常适合 MEMS、光电子、混合材料和脆弱的 III-V 材料。

MJB4 随着您的研究需求而发展：MJB4 拥有一个大型工具库，可以处理从 5x5 毫米到 100 毫米各种形状和厚度高达 4 毫米的晶圆片，提供最大的灵活性。还可以使用专用工具来处理奇形基材和其他非标准件。