产品信息

NIL-SFT8 系列是 SUSS 的紧凑型桌面工具，用于快速、精确地制造用于微米和纳米压印光刻的高质量工作印模。它旨在补充 MA/BA Gen4 系列 8 英寸掩模对准机，为 LED、MEMS/NEMS、微光学、AR 和光电传感器的研发和大批量制造提供一致的结果。

在创纪录的时间内完成高质量印章制造

通过强大的 UV-LED 固化加速印章制造，将工艺时间从几小时缩短为几分钟：NIL-SFT8 系列提供卓越的光均匀性，确保一致的质量，同时与各种 UV 固化材料和可选的水坑点胶系统兼容，减少浪费并提高工艺可靠性。

成熟的 UV-LED 曝光技术可将固化时间从几小时缩短至几分钟，同时保持 ±2.5% 的光均匀度。结果是一致固化的高质量印模，具有出色的结构精度和再现性。

NIL-SFT8 系列支持多种 UV 固化材料，可无缝集成到研发和生产工作流程中。该系统非常适合 MEMS、微光学和传感器，可确保跨应用的灵活性和可靠的结果。

NIL-SFT8 系列可现场从热技术升级到 UV-LED 技术，无需新设备即可适应不断变化的工艺需求。它旨在补充 MA/BA Gen4 系列 8 英寸掩模对准机，随着您的应用的发展提供投资保护。

NIL-SFT8 系列印章制作工具的主要特点

适用于任何规模的精致印章

NIL-SFT8 系列将精密工程与灵活的加工相结合，实现卓越的印模制造，在微米和纳米压印应用中提供质量、效率和工艺可靠性，支持从研发到 HVM 的无缝集成。

先进的 UV-LED 装置可提供 100 mW/cm² 的强度，在最大 200 × 200 mm 和 200 mm 圆形的曝光区域上具有 ±5% 的均匀性。一致的高强度固化可确保均匀的印章质量并减少工艺变异性，从而在研究和生产中获得可靠的结果。高强度 UV-LED 固化可确保快速、均匀的印模制造，光均匀度优于 ±2.5%。久经考验的 SUSS LED 技术可确保长使用寿命、低维护成本和一致的曝光质量。

多功能配置选项：该系统可容纳 200 × 200 毫米和 240 × 240 毫米的印章载体，以及 2 英寸、3 英寸、100 毫米、150 毫米到 200 毫米的母版，支持多种基材格式并实现项目要求之间的无缝过渡，从而最大限度地提高工具利用率。

卓越的 ±2.5% 紫外光均匀性确保整个基材的曝光一致。这种精确照明消除了边缘效应和热点，提供均匀的压印固化，从而在高分辨率微米和纳米压印应用中实现卓越的图案保真度和最小的缺陷。