产品信息

灵活、精确且安全：LabSpin6 和 LabSpin8 代表了最新一代手动旋涂机和显影系统，适用于最大 150 毫米和 200 毫米的晶圆。 LabSpin 系列专为实验室和研发环境而设计，在紧凑的占地面积内为各种光刻化学品提供统一、可重复的结果。

一个系统带来无限可能

从快速原型设计到高级工艺开发，LabSpin6 和 LabSpin8 无缝适应您的需求。随着研发的发展，配置晶圆尺寸、卡盘、涂层选项和其他模块。凭借紧凑的设计和智能技术，这两个系统占用空间很小，并提供精确、可重复的结果。

生成用于早期实验的小型基板或用于高级研发的全尺寸晶圆：LabSpin6 支持最大 150 毫米的圆形基板和最大 100×100 毫米的方形基板，而 LabSpin8 则将该范围扩展到 200 毫米圆形或 150×150 毫米方形。这种灵活性使您可以在一个平台上探索各种流程。

LabSpin 系列提供多种不同的卡盘，适用于各种基材，甚至适用于碎片和特殊形状。这意味着在不同的应用程序中更少的妥协、更少的限制和更可靠的结果。

从简单的抗蚀剂点胶系统到全自动点胶和边缘珠去除 (EBR)，LabSpin 系列为您提供了工艺所需的功能。根据您的需求添加或删除功能，确保您始终在成本效率与流程能力之间取得平衡。

使用 LabSpin 灵活的平台配置完美的水坑开发设置。从显影剂分配、去离子水冲洗和氮气干燥选项中进行选择，以创建您所需的精确工艺，并通过额外的先进盖板进一步适应。

适合各种环境的灵活设置：LabSpin 可作为桌面装置使用，也可作为内置平台无缝集成到湿工作台、手套箱或 SUSS LabCluster 中。紧凑的占地面积节省了宝贵的洁净室空间，同时为您提供最大的安装灵活性。

LabSpin6 和 LabSpin8 涂布机和显影剂的主要特点

控制您的流程，加速您的研究

LabSpin 系列专为控制每一步而设计。借助可编程配方、可调节旋转速度和精确加速度，您可以微调流程并可靠地重现它们，以获得一致、有意义的研发结果。

从低至 50 rpm 到高达 8,000 rpm（带 200 毫米卡盘）——LabSpin 系列涵盖了全方位的旋转要求。无论您需要敏感层涂层还是均匀薄膜的最大速度，您都可以准确设置所需的参数。

200 rpm/s 至 3,000 rpm/s 的加速度让您可以完全控制涂层动力学。实现光滑、无缺陷的层并根据您的材料特性精确调整工艺。

节省时间并确保可重复性：在一个系统中存储多达 200 个配方，每个配方有 40 个步骤。这允许在进程之间快速切换，同时保证您的结果在多次运行中保持一致。