MCS8手动涂布显影系统

产品信息

低至模块级别的广泛选项和超过 500 种设置的灵活配置：MCS8 平台是您的手动涂层和水性显影解决方案，具有高度的工艺多功能性，适合初创企业、研发和小批量生产。

个性化适应性系统

借助 MCS8，您可以根据需要准确设置流程，从旋涂和显影到烘烤和清洁。智能模块化设计节省了宝贵的空间，保持操作简单，并为广泛的应用提供可靠的结果。

RCD8、AS8、HP8、LabSpin8、VP8、CP8 – MCS8 集成了不同的涂层、显影、烘烤和清洁模块，可根据个别工艺需求和应用配置系统。

MCS8 基于经过验证的 HVM 技术，为实验室、初创企业和中试线带来大批量制造中值得信赖的相同可靠性能、精度和工艺稳定性，可完美适应您的环境。

得益于其模块化设计，MCS8 在同类产品中以最小的洁净室占地面积提供了最丰富的功能。只需一套供应系统和一套废物管理系统，您就可以灵活扩展系统，同时节省宝贵的实验室空间。

从小规模开始，并在需要时进行扩展：MCS8 LabCluster 可以通过组合最多六个框架（每个框架有两个模块）进行单独配置。可以添加可选的涂层、显影或底漆工具来建立完整的工艺解决方案。

MCS8 手动涂层系统的主要特点

为创新而构建的可扩展性

从早期研究到小规模，MCS8 与您的项目一起成长。 MCS8 可从单模块系统扩展到具有 12 个模块的 6 个框架，并可扩展为完整的 LabCluster，适用于一系列无与伦比的高级应用。

每个框架有两个可定制模块来启动您的 MCS8 配置，这些模块选自 SUSS 的各种手动和半自动涂布机和水性显影器，包括 LabSpin8、Hot Plate HP8、Vapor Primer VP8 或主动冷却的 Cool Plate CP8。

扩展您的可能性：添加可选功能，例如 LabSpins 的自动分配系统或 Hot Plates 的接近销。这些增强功能简化了工作流程、提高了一致性并引入了更多系统功能。

创建完全集成的流程解决方案：在单个 MCS8 LabCluster 中组合最多六个框架，总共十二个模块。添加先进的涂层和开发工具，例如 SUSS 的 RCD8 或 AS8，以解锁全方位的应用 - 从 MEMS 和 III-V 到电子束光刻、纳米压印、微流体和微光学。