Beneq Spatial Series 面向干法刻蚀、等离子体处理与表面清洗场景，页面整理公开资料中的型号、用途和初步选型要点，适合科研检测、材料表征、工艺验证或设备采购沟通。

Beneq TFS Series 面向干法刻蚀、等离子体处理与表面清洗场景，页面整理公开资料中的型号、用途和初步选型要点，适合科研检测、材料表征、工艺验证或设备采购沟通。

产品信息 蚀刻 蒸发 离子注入机 Plasma Ashing Enviro Luminous NA 环境 夜光NA 真空炉 最大化您的灰化产量 经过生产验证的 Optima 抗蚀剂剥离系统以最低的成本提供每平方米洁净室空间的最高吞吐量。

Enviro-1Xa Single Chamber Ashing System

产品信息 蚀刻 蒸发 离子注入机 等离子灰化 Enviro Luminous NA 环境 夜光NA 真空炉 完美的双室灰化系统 该系统可以处理100mm – 300mm的晶圆尺寸。该多功能平台能够在专用处理室中同时运行两种不同尺寸的晶圆。

ULVAC NA-1300 面向半导体工艺验证、产线补线与设备流通场景，页面整理公开资料中的型号、用途和初步选型要点，适合科研检测、材料表征、工艺验证或设备采购沟通。

产品信息 蚀刻 蒸发 离子注入机 等离子灰化 Enviro Luminous NA 环境 夜光NA 真空炉 扇出面板级灰化 NA-1500 等离子灰化系统专为处理扇出面板级封装所需的较大基板而设计。 ULVAC NA-1500 为先进半导体制造提供无与伦比的精度和可靠性。

ULVAC NA-8000 面向半导体工艺验证、产线补线与设备流通场景，页面整理公开资料中的型号、用途和初步选型要点，适合科研检测、材料表征、工艺验证或设备采购沟通。

ULVAC CC Series 面向干法刻蚀、等离子体处理与表面清洗场景，页面整理公开资料中的型号、用途和初步选型要点，适合科研检测、材料表征、工艺验证或设备采购沟通。

ULVAC CME Series 面向干法刻蚀、等离子体处理与表面清洗场景，页面整理公开资料中的型号、用途和初步选型要点，适合科研检测、材料表征、工艺验证或设备采购沟通。

ULVAC ULGLAZE Series 面向干法刻蚀、等离子体处理与表面清洗场景，页面整理公开资料中的型号、用途和初步选型要点，适合科研检测、材料表征、工艺验证或设备采购沟通。

ULVAC NLD-570EXa 面向半导体工艺验证、产线补线与设备流通场景，页面整理公开资料中的型号、用途和初步选型要点，适合科研检测、材料表征、工艺验证或设备采购沟通。

ULVAC NLD-5700 干法蚀刻系统用于半导体、电子材料和微纳加工中的等离子体刻蚀，适合干法蚀刻、表面处理和工艺验证。

ULVAC RISE Series 用于自然氧化膜去除、干法刻蚀和表面清洗，适合半导体工艺验证与材料表面处理。

ULVAC NE-5700 面向半导体工艺验证、产线补线与设备流通场景，页面整理公开资料中的型号、用途和初步选型要点，适合科研检测、材料表征、工艺验证或设备采购沟通。

ULVAC NE-950EX APIOS 面向半导体工艺验证、产线补线与设备流通场景，页面整理公开资料中的型号、用途和初步选型要点，适合科研检测、材料表征、工艺验证或设备采购沟通。

产品信息 蚀刻多层膜深度氧化物蚀刻 RISE 系统 多层膜 深度氧化蚀刻 上升系统 蒸发 离子注入机 等离子灰化 真空炉 多层膜等离子蚀刻系统 NE-550EXa是一款多用途高密度、低压等离子刻蚀系统，具有良好的均匀性和重复性。该系统能够蚀刻许多材料，包括： III-V族、金属、陶瓷和光学材料。

产品信息 蚀刻 蒸发蒸发辊涂机研发/中试生产在线系统 蒸发辊镀机 研发/中试生产 在线系统 离子注入机 等离子灰化 真空炉 氧化物沉积 这是一种批量式高真空蒸发系统，用于在基材上沉积金属和氧化物。由于该系统的操作面板具有集成控制功能，可实现自动化真空和沉积过程，因此推荐用于研发以及小规模制造。间歇式、高真空蒸发系统。

ULVAC Ei-H series 面向干法刻蚀、等离子体处理与表面清洗场景，页面整理公开资料中的型号、用途和初步选型要点，适合科研检测、材料表征、工艺验证或设备采购沟通。