P9000 Cluster System
C&D P9000 光刻胶涂布机和显影剂集群系统设计用于处理 50mm 至 300mm 晶圆。 P9000 可配备多种不同的模块，包括多个光刻胶涂布机或显影机、蒸气底漆模块、热板和冷却板。还提供专用工艺模块，包括使用光学定心和边缘珠去除。 C&D 的 P9000 集群系统专为在较小的占地面积内实现灵活性和高吞吐量而设计。 P9000 可配置为涂布机、显影机、蒸气底涂机、烘烤机、冷却机或任何变体，并且可以处理各种光刻胶旋涂和光敏聚合物应用。
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P9000集群系统
The C&D P9000 Photoresist Coater & Developer Cluster System is designed to process 50mm to 300mm wafers. The P9000 can be equipped with a wide array of different modules, including multiple photoresist coaters or developers, vapor prime modules, hot plates, and chill plates. Specialized process modules are also available, including the use of optical centering and edge bead removal. C&D’s P9000 Cluster System is designed for flexibility and high throughput within a small footprint. The P9000 can be configured as a coater, developer, vapor prime, bake, chill or any variation, and can process a wide range of photoresist spin coating and photosensitive polymer applications.
C&D 专注于定制光刻胶涂布机，可满足特定客户的要求，以提高效率并降低成本。这意味着我们可以减少集群系统的占地面积，以适应晶圆厂内最关键的尺寸。另一方面，可以使用扩展槽来定制工具，以便将来实施附加模块或由于需求增加或项目开发变化而增加基板尺寸。
建发正在创造许多新的创新，它们都是建发 P9000 集群系统功能中突出的功能。特殊模块，例如超声波喷涂、C&D 革命性的 Synchrospin 涂层系统，以及传统模块的许多光学变体，例如光学边缘珠去除 (OEBR) 和光学定心。
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