领先的性能，最大的资本效率和占地面积节省

无掩模曝光光刻系统

基于 Veeco 成熟的 TurboDisc 技术，加速下一代设备的工艺开发

高通量无掩模曝光光刻系统

自动晶圆传输可实现高系统利用率

EVG®610 是一款紧凑型多用途研发系统，可处理最大 200 毫米的小型基板片和晶圆。

直径达 4 英寸的基板上的高质量外延层

掩模对位系统（半自动/自动）

超灵活的工具，其设计可配置为 III-V 族和新兴材料

掩模对位系统（半自动/自动）

市场上最具成本效益和最高容量的多 4 英寸生产 MBE 系统

研发和小规模生产中单晶圆抗蚀剂加工的完美解决方案

磁性材料的宏观特性（磁滞、能量损失、磁噪声等）由其磁性微观结构决定，即由磁畴及其对磁场激励的反应决定。因此，磁畴观察对于磁性材料的开发和磁化过程的理解至关重要。evicoMagnetics Kerr 显微镜和磁力计系统是用于磁畴和磁化过程可视化以及光学记录各种磁性材料（包括片状或带状、磁性薄膜和多层、图案薄膜或微米和纳米线）磁化曲线的设备。它们是半自动、非接触式、无损测量系统，使用磁光克尔效应 (MOKE) 作为对比机制。

无掩模光刻消除了传统光掩模的限制，可以立即创建图案，而无需成本、交货时间或掩模生产的不灵活性。这使其成为研究、开发和快速设计迭代的理想方法。

卓越的吞吐量、更长的运行时间、更小的占地面积和集群工具晶圆处理

独立 EVG®105 烘烤模块，适用于软烘烤或曝光后烘烤工艺

开发了一种新的、有效的方法，用于合成储氢材料并通过高氢气氛下的反应球磨监测氢化反应。它涉及在专门设计的小瓶中进行高能球磨，通过将新开发的气体温度测量系统以及无线电发射器集成到小瓶盖中，可以对温度进行原位监测，更重要的是，可以对氢气压力进行原位监测。外部接收器将数据传输至数据采集计算机。（O. Gutfleisch et. al., J. Alloys and Comp. 427 (2007) 204）

EVG®120 是一款全自动光刻胶处理系统，专为小批量和大批量制造而设计，支持最大 200 毫米的晶圆

EVG®150 是一款全自动光刻胶处理系统，可提供高吞吐量性能并支持直径达 200 毫米的晶圆。

键合晶圆堆叠的红外和键合强度测量

芯片到晶圆重叠计量系统

用于键合和光刻的多功能、高精度计量

用于键合堆叠和单晶圆的高通量、高分辨率计量

用于 3D 和异构集成的高速高精度计量