POLOS BEAM 无掩模光刻系统

产品信息

无掩模光刻消除了传统光掩模的限制，可以立即创建图案，而无需成本、交货时间或掩模生产的不灵活性。这使其成为研究、开发和快速设计迭代的理想方法。

POLOS® 将这些优势融入真正紧凑的桌面平台中，在不牺牲分辨率、速度或可用性的情况下提供高性能无掩模光刻。

该系统的核心是 POLOS® 光束引擎，它将亚微米特征直接投射到基材上。高精度步进可实现跨多个曝光区域的精确拼接，从而实现直径达 6 英寸的基材的无缝图案化。

设计紧凑

完整、专业的无掩模光刻解决方案，其占地面积比典型的台式电脑还要小。

高性能曝光

实现亚微米特征分辨率，同时在两秒内暴露整个写入字段。

快速自动对焦

闭环聚焦光学器件与压电执行器相结合，使系统在一秒内聚焦，确保获得清晰、可重复的结果。

轻松多层对准

半自动对准工具允许多层工艺在短短几分钟内完成，即使对于复杂的设计也是如此。

直观的软件工作流程

图案化快速而简单：只需加载您的设计、对齐基材并曝光即可。用户界面遵循熟悉的 CNC 风格导航，即使对于新用户来说也能直观地进行操作。