先进的光刻胶处理系统

研发和小规模生产中单晶圆抗蚀剂加工的完美解决方案

EVG101 光刻胶处理系统与 EVG 的自动化系统完全兼容，可在单室设计上执行研发型工艺。紧凑的布局和较小的占地面积允许用户在工业水平上半自动处理晶圆，以开发新设备或工艺。

特征

晶圆尺寸范围从小片、方形和圆形基板直至 300 毫米

通过手动晶圆装载/卸载进行自动旋转或喷涂或显影

利用经过验证的模块化设计和标准化软件，快速、轻松地从研究到生产的过程转移

注射器分配系统，用于利用小体积抗蚀剂，包括高粘度抗蚀剂

占地面积小，同时保持高水平的人身和过程安全

多用户概念（无限数量的用户帐户和配方、可分配的访问权限、不同的用户界面语言）