自动光刻胶处理系统

EVG®120 是一款全自动光刻胶处理系统，专为小批量和大批量制造而设计，支持最大 200 毫米的晶圆

成熟的 EVG 120 的下一代采用新的机器人系统、优化的并行处理、模块化工具设计、优化的点胶系统以及包括晶圆边缘曝光的后处理单元。此外，该系统还具有显着的经济效益，例如通过原位抗蚀剂厚度测量提高产量、通过紧凑的占地面积和优化的化学品使用降低拥有成本以及通过待机模式降低能耗。新型 EVG 120 可以处理多种材料，例如薄和厚抗蚀剂、电介质、彩色抗蚀剂和粘合剂，用于光刻、晶圆键合和纳米压印光刻应用。涂层厚度范围可以从 100 nm 到几百 µm。

特征

晶圆尺寸最大 200 毫米

超紧凑设计，占地面积<1.9m2

多达 2 个涂层或显影模块和 14 个热/冷板

灵活的模块化配置，具有旋涂/喷涂/开发功能

底座中集成了多达 6 个泵和抗蚀剂瓶；泵和阻力以最短的距离到达使用点

CoverSpin™ 碗设计提供卓越的均匀性并减少材料消耗