Name: EVG®610
Brand: EV Group
SKU: https://www.evgroup.com/products/lithography/mask-alignment-systems/evg610
Availability: InStock

掩模对准系统

EVG®610 是一款紧凑型多用途研发系统，可处理最大 200 毫米的小型基板片和晶圆。

EVG610 支持各种标准光刻工艺，例如真空曝光、硬曝光、软曝光和接近曝光模式，并可选择背面对准。此外，该系统还提供额外的功能，包括键合对准和纳米压印光刻（NIL）。 EVG610 可以快速处理和重新加工，以满足不断变化的用户需求，转换时间不到几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到专家级别的需要，从而使其成为大学和研发应用的理想选择。