无掩模曝光光刻系统

LITHOSCALE® 是一款革命性的、高度通用的无掩模曝光光刻平台，适用于可容纳最大 300 毫米晶圆的各种微加工应用。

LITHOSCALE 系统采用 EV Group 的 MLE™ 无掩模曝光技术，通过结合强大的数字处理技术解决传统瓶颈，实现实时数据传输和即时曝光、高结构化分辨率和吞吐量可扩展性。其无掩模方法消除了与掩模相关的耗材，而带有可调谐固态激光源的曝光系统旨在实现高冗余和长寿命稳定性，并具有独特的自动校准功能，可最大限度地减少维护。强大的实时数字处理功能可以立即将设计文件曝光到基板上，从而避免每个数字掩模布局花费数小时的转换时间。 LITHOSCALE 具有高分辨率（<2μm L/S）、整个基板表面的动态芯片级可寻址曝光功能，可实现敏捷的无耗材处理和较低的拥有成本 (CoO)。 LITHOSCALE 系统利用具有可见光和红外功能的专用物镜以及可容纳最大 300 毫米晶圆尺寸的专有卡盘设计，集成了全晶圆顶部和背面对准。该系统具有带自动对焦的动态对准模式，以适应基材材料和表面的变化。精细控制焦点水平位置的能力可保持侧壁陡峭以及抗蚀剂所需的 3D 轮廓，同时防止边缘顶部和底部。大工作距离和自动自适应对焦可确保曝光表面上的图案均匀性。它还提供个性化芯片加工能力，同时快速全场定位和动态对准可实现各种基板尺寸和形状的高可扩展性。

特征

晶圆/基板尺寸高达 300 毫米/12 英寸

分辨率能力 < 2 µm L/S

配备 MLE 技术，具有高端衍射限制光学器件

375 nm 和/或 405 nm 波长的曝光光谱；用户可定义为单一、宽带或任何类型的波长混合

定期监控和自动校准的固态光源确保其长寿命稳定性和高冗余度

高级对准模式支持多点对准、顶部和底部可见光和红外对准功能