高通量无掩模曝光光刻系统

LITHOSCALE® XT 是一款革命性的、高度通用的无掩模曝光光刻平台，适合容纳最大 300 毫米晶圆的各种微加工应用。

与之前的行业基准 LITHOSCALE® 系统相比，EVG 的 LITHOSCALE® XT 的吞吐量提高了五倍，支持 300mm 晶圆和 300mm 方形基板。该系统非常适合涉及多芯片图案化、用于人工智能和高性能计算 (HPC) 设备的扇出晶圆级封装 (FoWLP)、面板级封装 (PLP)、MEMS、先进成像传感器以及用于安全和汽车应用的芯片可追溯性的应用。 LITHOSCALE® XT 处理管道对矢量化图案数据进行数字转换，并根据预先测量和实时获取的对准信息补偿曝光期间的失真。

在单个或同时在两个波长带（λ≈375 和 405 nm）下工作，薄和厚抗蚀剂、介电材料、透明、黑色、RGB 或红外抗蚀剂以及许多其他已建立的和新颖的材料都可以得到最佳曝光。单独的“曝光矩阵”允许选择任意对的测试参数，例如曝光剂量、光谱成分焦点位置和曝光速度，以在生产加速阶段快速确定最佳工艺配方和多维工艺窗口，从而最大限度地减少设置时间并简化材料变更。该设备可实现出色的工艺控制，包括侧壁轮廓、复杂的形貌结构和高深宽比图案化。在整个晶圆表面上进行曝光，展示了零针脚性能。

LITHOSCALE® XT 是用于高级封装应用的数字大批量光刻系统的典型示例。其实时自动对焦、高景深、动态失真补偿和广泛的处理矩阵功能证明了该技术相对于下一代设备的传统曝光系统的优势。

特征

晶圆尺寸最大300mm，面板尺寸300mm见方

具有双阶段概念的六个曝光头

双波长 375nm 和 405nm，位于一个曝光头中，由高功率 UV 激光二极管实现

高分辨率，< 2 µm L/S