RTP-100UNITEMP RTP-100 快速热真空处理炉RTP-100 是前装载式快速热真空处理炉，官网列出升温速率最高 150 K/sec，适用于最高 100 mm 单片晶圆或 100 mm x 100 mm 基片。升温速率最高 150 K/sec晶圆/基片尺寸最高 100 mm（4 英寸）单片晶圆或 100 mm x 100 mm 基片查看详情
RTP-150UNITEMP RTP-150 快速热真空处理炉RTP-150 是前装载式快速热真空处理炉，官网列出升温速率最高 75 K/sec，适用于最高 150 mm 单片晶圆或 156 mm x 156 mm 基片。升温速率最高 75 K/sec晶圆/基片尺寸最高 150 mm（6 英寸）单片晶圆或 156 mm x 156 mm 基片查看详情
RTP-200UNITEMP RTP-200 快速热真空处理炉RTP-200 是可带或不带高真空配置的快速热真空处理炉，官网列出适用于最高 200 mm（8 英寸）单片晶圆。晶圆尺寸最高 200 mm（8 英寸）单片晶圆升温速率最高 50 K/sec，可选 100 K/sec查看详情
