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共 65 条 · 半导体光刻与外延设备

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EB 掩模写入器

EB Mask Writer

EB 掩模写入器

EB Mask Writer是以电子束写入控制技术为核心技术，集成了精密机械控制、大规模数据处理、激光测量技术等先进基础技术的设备。

授予日期2013 年 3 月 22 日
奖项名称大河内纪念制作大奖（2012年）

外延反应器

Epitaxial Reactors

外延反应器

高生长速率的单晶圆外延反应器可生产高质量的外延薄膜。

晶圆尺寸200mmφ
加热方式背面电阻加热

掩模检测系统

Mask Inspection System

掩模检测系统

高生产率掩模检测系统

口罩尺寸6寸
波长199纳米

CW-2000

CW-2000

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占地面积减半，生产率提高 1.5 倍！性价比极佳！

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半导体涂胶显影与晶圆处理设备

激光光谱与光子学系统

光刻、太阳模拟与计量设备

晶圆键合、光刻与量测系统

晶圆检测、晶体生长与等离子工艺设备

低温、磁学与材料表征系统

薄膜沉积、PVD/ALD 与真空系统

光刻、无掩模直写与曝光系统

扫描探针、低温显微与磁测量系统

开尔文探针、表面电势与光电子系统

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半导体耗材

DR-8000

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自动尺寸测量系统

DT-3000

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SOKUDO DUO 高生产率，大于 450 WPH 的双轨系统

DW-3100

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为提高最先进设备的特性做出了重大贡献

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