Aspect S 系统是一款革命性的在线、非破坏性基于模型的红外反射测量系统，可实现高深宽比结构、薄膜和外延结构的关键过程控制。它以其高速度和流程覆盖满足领先客户的需求。

产品概述

随着越来越多的高深宽比工艺在多个行业领域得到应用，需要对相关工艺进行计量监测，包括碳膜硬掩模和蚀刻 3D 结构的尺寸和性能。

Aspect S 可对集成电路制造中使用的层和蚀刻结构的尺寸和均匀性进行高通量、低 COO、非接触式、非破坏性测量。小光斑尺寸使得该工具适合作为在线过程控制来测量划线测试结构。独特的技术和分析能力简化了系统校准要求，并消除了关键层测量的基材变化的影响。

虽然该软件包含用于创建测量配方和分析模型的高级功能，但它具有用户友好的界面和实施方式，允许晶圆厂客户创建和管理 Aspect S 工具组的配方系统。

非晶碳薄膜的厚度图

应用领域

V-NAND 器件和测试晶圆上使用的碳硬掩模

适用于 CIS 和模拟器件芯片的深沟槽蚀刻

SiGeB 和 SiP 材料的掺杂监测

薄膜成分表征

EPI 工艺的器件上和毯式晶圆材料表征

特色市场

裸晶圆和面板制造

CMOS技术

专业

先进封装

Element™ G2 系统