Atlas V 系统是一款用于大批量制造的 OCD 和薄膜计量工具，可实现 FinFET 和环栅 (GAA) 逻辑、DRAM 和 3D NAND 器件工艺控制。

产品概述

Atlas V 系统将最先进的光学设计与创新的 Ai Diffract™ 建模引擎相结合，为测量复杂的 3D 器件结构提供 OCD 和薄膜计量解决方案。双通道光学架构由 DUV 4×4 Mueller Matrix (MM) SE 和 DUV 偏振法线入射反射计 (NIOCD) 组成。它们共同为高精度和高通量的 OCD 分析提供丰富的信息。 Atlas V 系统旨在测量最关键和最具挑战性的工艺步骤，包括 CD-SEM 和其他技术无法看到的隐藏特征。

Atlas V 系统具有独特的功能，例如测量 GAA 逻辑器件中的单个纳米线尺寸，是一种用于前沿器件过程控制的使能技术。

应用领域

适用于所有器件领域的光刻、蚀刻、CVD 和 CMP 工艺的 OCD

局部变异

不对称和倾斜

常见和批评的电影

应力和晶圆翘曲

专题新闻

Onto Innovation 获得领先 DRAM 制造商计量产品套件的批量采购协议

Onto Innovation 凭借 Atlas V 光学临界尺寸计量工具荣获 2022 年西方最佳奖

具有集成计量功能的智能线路监测和控制

通过互联计量方法增强 CMP 工艺控制，该方法将数据从独立 OCD 或薄膜计量反馈到通过 AI 驱动的分析软件连接的集成计量。这种方法由先进的建模和分析工具提供支持，可以提供高精度、高通量的结果，最大限度地减少或消除对新 TEM 数据的需求和成本，并加快解决方案时间、加快偏移检测、降低成本并提高 Cpk。

通过智能生产线监控和集成计量增强 CMP 工艺控制

随着半导体制造商在高性能计算和人工智能应用的推动下不断突破性能和功能的界限，化学机械平坦化 (CMP) 工艺的强度复杂性不断增加。新的逻辑晶体管设计、3D NAND 堆叠和 DRAM 集成引入了更多 CMP 层和更严格的工艺窗口。

IMPULSE® V 系统