Atlas G6 系统是一款 OCD 和薄膜计量工具，专为最先进的逻辑和存储设备而设计。它旨在满足下一代人工智能应用及其他应用的需求，提供增强的光学、人工智能驱动的配方开发以及更严格的工具匹配，以实现卓越的过程控制。

产品概述

随着半导体制造商推进下一代 GAA 节点、下一代 HBM 和垂直 DRAM 架构，工艺控制要求日益严格。更小的纳米片结构和更密集的 DRAM 单元需要更高的测量精度、更快的配方开发以及更严格的工具与工具匹配。

Atlas® G6 系统旨在通过新的光学设计来应对这些挑战，提高信噪比、光谱稳定性和测量精度。增强的软件算法和数据管理工具可提供更好的全机队光谱匹配，而 Ai Diffract™ 软件中的新数据通道和下一代模型引导机器学习可实现更快、更稳健的配方开发。较小的光斑尺寸可确保对当今最紧凑的 DRAM 结构进行精确测量。

Atlas G6 系统与 Onto Innovation 的 Discover® 生态系统完全集成，为晶圆厂提供预测过程控制和智能制造功能，从而加快业界最先进设备的产量和上市时间。

应用领域

适用于所有器件领域的光刻、蚀刻、CVD 和 CMP 工艺的 OCD

局部变异

不对称和倾斜

常见和批评的电影

应力和晶圆翘曲

专题新闻

Onto Innovation 推出下一代 OCD 计量平台，为先进人工智能设备提供过程控制

IMPULSE® V 系统

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Aspect®系统

强迫症解决方案

更小的几何尺寸，更大的需求：OCD 在 GAA 逻辑和垂直门 DRAM 过程控制中的作用