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EB Mask Writer
EB Mask Writer是以电子束写入控制技术为核心技术,集成了精密机械控制、大规模数据处理、激光测量技术等先进基础技术的设备。
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EB Mask Writer是以电子束写入控制技术为核心技术,集成了精密机械控制、大规模数据处理、激光测量技术等先进基础技术的设备。
特征
关键技术
电子束掩模写入机是基于多个不同领域的技术的系统,包括物理、化学、电气工程、机械工程、控制工程、信息处理工程和计量学。
“电子束掩模写入机是各种尖端专业技术融合在一起的综合体。这些技术包括以纳米技术(十亿比一的规模)为代表的微小几何结构,到处理“万亿”(一万亿)规模的海量数据的技术。在挑战新领域的承诺的驱动下,在“无尽的挑战”口号的启发下,我们正在努力实现我们的愿望,为半导体行业、我们的社会和人类的进步做出贡献。
只需两秒,就能将一枚日元硬币排成一个足球场!高速高精度控制技术
高速、高精度控制技术 与电视阴极射线管的原理相同,电子束掩模刻录机利用电子枪发射的电子在光掩模上形成电路图案。电子束掩模写入器精确定位电子,以纳米级的精度在光掩模上写入复杂的电路图案。
这种定位速度和精度相当于将直径 20 毫米的一日元硬币排列在足球场上,误差范围为 0.2 毫米,只需 2 秒,不会丢失任何一枚硬币。只有我们的高速、高精度控制技术,才能使我们生产出能够以高产量写入高质量半导体电路图案的掩模写入器。
终极图像稳定器!纳米级超精密机械技术
电子束掩模写入器将光掩模放置在在平面内移动的平台上,并在不断移动平台的同时写入电路图案。该平台使用来自称为激光干涉仪的精密传感器的位置信息进行反馈控制。移动几十公斤重的平台会引起机械振动。机械振动主要有两种类型:可以通过机械控制抑制的相对低频振动,以及难以机械跟踪的高频振动。这两种振动都需要在电子束掩模写入器中进行控制,以保持图案位置精度。为了满足这些要求,我们开发并成功应用了1)最高水平的超精密工作台和最佳机械控制技术,将相对低频的振动抑制到亚纳米级;2)光束跟踪技术,将激光干涉仪的信号反馈到电子束偏转控制装置,将高频振动抑制到亚纳米级。通过结合这两种技术,相对于电子束的工作台位置被控制在亚纳米级几乎静止,就像图像稳定器一样。
终极可靠性技术!?万亿级大容量信息处理技术
万亿级速度和大容量信息处理技术 随着半导体规模的不断缩小,处理器和内存的性能大幅提升,计算机处理能力呈指数级增长。随着半导体集成精度的提高,电子束掩模写入器处理的电路图案写入数据变得越来越庞大。正在处理的数据量迅速增长的另一个因素是补偿信息,以防止迷宫般的模式之间的相互干扰。当从LSI电路模式数据生成写入数据时,信息量可以达到TB级别(tera = 1,000,000,000,000)。 NuFlare Technology 使用尖端处理器并行处理大量 TB 级数据,我们正在开发和实施高速计算技术。
描述电路图案所需的图形数据量与最新HDD的数据量相当。电子束偏转控制器可以在短短几个小时内接收所有图形数据,而不会丢失任何数据顺序。这意味着电子束掩模写入器需要具有终极可靠性技术,能够无任何错误地写入一万亿个数字。未来,数据量预计将呈爆炸式增长,我们将继续向更高的处理速度发展。
奖项及论文列表
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Nuflare Technology,Inc. 的审稿论文雇员
书籍等
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