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Mask Inspection System
高生产率掩模检测系统
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高生产率掩模检测系统
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掩模检测系统 NPI-8000
掩模检测系统 NPI-8000 和 NPI-8000V 用于检测写入在要转移到晶圆上的光掩模上的图案中的缺陷。
特征
2)60分钟内高速检测。
3) 高灵敏度,可检测最先进的光掩模。
关键参数
发展路线图
掩模检测系统用于检测电子束掩模写入器步进的光掩模图案中的缺陷。 NuFlare Technology将继续开发领先的掩模刻录机,同时关注下一代光刻技术(例如EUV或纳米压印)的趋势,以满足5nm及以后代器件开发的需求。
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