Atlas® III+ 系统

Atlas III+ 系统为成熟技术提供可靠的 OCD 和薄膜计量，在各种工艺层和设备类型中具有灵活的性能。

产品概述

Atlas III+ 系统是一种广泛采用的内联 OCD 计量系统，以其强大而可靠的解决方案而闻名，涵盖从 FEOL 到 BEOL 的所有 OCD 和薄膜层。凭借其信息丰富的光学架构、强大的OCD和机器学习分析引擎，Atlas III+系统在先进逻辑、3D NAND和DRAM器件工艺方面表现出色。该系统将计量性能扩展到亚埃精度和准确度水平，可在大批量制造的广泛应用中实现先进的过程控制。 Atlas III+ 系统采用了专有的光谱反射仪和光谱椭偏仪解决方案，当与 Onto Innovation 的 Ai Diffract™ OCD 分析软件结合使用时，它可以对每个关键制造单元操作进行过程控制。用户可以深入了解蚀刻、清洁、沉积和 CMP 步骤中的复杂结构轮廓。

应用领域

DRAM：逻辑和代工

专业：CIS、AR/VR、电源&射频等

专题新闻

Onto Innovation 获得领先 DRAM 制造商计量产品套件的批量采购协议

具有集成计量功能的智能线路监测与控制

通过互联计量方法增强 CMP 工艺控制，该方法将数据从独立 OCD 或薄膜计量反馈到通过 AI 驱动的分析软件连接的集成计量。这种方法由先进的建模和分析工具提供支持，可以提供高精度、高通量的结果，最大限度地减少或消除对新 TEM 数据的需求和成本，并加快解决方案时间、加快偏移检测、降低成本并提高 Cpk。

通过智能生产线监控和集成计量增强 CMP 工艺控制

随着半导体制造商在高性能计算和人工智能应用的推动下不断突破性能和功能的界限，化学机械平坦化 (CMP) 工艺的强度复杂性不断增加。新的逻辑晶体管设计、3D NAND 堆叠和 DRAM 集成引入了更多 CMP 层和更严格的工艺窗口。

IMPULSE® V 系统

IMPULSE V 系统通过增强的波前技术和人工智能驱动的分析来帮助推进 CMP 处理，提供超过 2 倍的精度改进和更快的解决方案，这对于下一代半导体制造需求至关重要。

IMPULSE®+ 系统

IMPULSE+ 系统旨在在 CMP 工艺模块中提供薄膜测量、保真度和生产率。它可作为集成或独立平台提供，具有高灵敏度和准确性。

Atlas® V 系统

Atlas V 系统是一款用于大批量制造的 OCD 和薄膜计量工具，可实现 FinFET 和环栅 (GAA) 逻辑、DRAM 和 3D NAND 器件工艺控制。