CIT – 完全集成的自动探针系统

C&D 光刻胶涂布机设计用于处理 50mm 至 300mm 晶圆。旋涂机系统可配置为处理光致抗蚀剂、PMMA、PMGI、旋涂电介质、SOG、掺杂剂和其他材料。热板烘烤炉可配置为处理各种化学品。提供特殊模块，例如超声波喷涂、C&D 革命性的 Synchrospin 旋涂机系统，以及传统模块的许多光学变体，例如光学边缘珠曝光 (OEBE) 和光学居中、泛光曝光。我们专注于定制光刻胶涂布机，可满足特定客户的要求，以提高效率并降低成本。

XBC300 Gen2 SP 是您使用第三方混合键合机在 200mm 和 300mm 基板上进行顺序芯片到晶圆混合键合的全自动解决方案。立即发现 ➤

C&D 光刻胶显影剂设计用于处理 50mm 至 300mm 晶圆。 C&D 光刻胶显影剂适用于我们的多个线性和集群平台，旨在满足多种不同的处理要求。该系统可以配置多个分配、温度控制、水性或溶剂显影以及选择的喷嘴。光学边缘珠曝光 (OEBE) 和泛光曝光等选项模块可在同一工具中简化您的流程。