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Photoresist Coater
C&D 光刻胶涂布机设计用于处理 50mm 至 300mm 晶圆。旋涂机系统可配置为处理光致抗蚀剂、PMMA、PMGI、旋涂电介质、SOG、掺杂剂和其他材料。热板烘烤炉可配置为处理各种化学品。提供特殊模块，例如超声波喷涂、C&D 革命性的 Synchrospin 旋涂机系统，以及传统模块的许多光学变体，例如光学边缘珠曝光 (OEBE) 和光学居中、泛光曝光。我们专注于定制光刻胶涂布机，可满足特定客户的要求，以提高效率并降低成本。
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光刻胶涂布机
C&D 光刻胶涂布机设计用于处理 50mm 至 300mm 晶圆。旋涂机系统可配置为处理光致抗蚀剂、PMMA、PMGI、旋涂电介质、SOG、掺杂剂和其他材料。热板烘烤炉可配置为处理各种化学品。提供特殊模块，例如超声波喷涂、C&D 革命性的 Synchrospin 旋涂机系统，以及传统模块的许多光学变体，例如光学边缘珠曝光 (OEBE) 和光学居中、泛光曝光。我们专注于定制光刻胶涂布机，可满足特定客户的要求，以提高效率并降低成本。
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