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Wafer Scrubber/Cleaner
C&D 晶圆擦洗机是一款全自动清洁机，设计用于使用刷子和/或高压臂擦洗、冲洗和旋转干燥基材。
科桥实验提供 C&D Semiconductor Wafer Scrubber/Cleaner 的型号核对、选型咨询、报价沟通、采购支持、安装培训和售后协同服务。
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C&D 晶圆洗涤器和清洁模块
晶圆洗涤器模块
C&D 晶圆擦洗机是一款全自动清洁机，设计用于使用刷子和/或高压臂擦洗、冲洗和旋转干燥基材。
刷洗和高压擦洗操作在较低的处理位置进行，而冲洗、吹扫和最终干燥操作则在腔室的中间主轴位置进行。这种双层旋转工艺和大直径工艺外壳减少了基材和处理机构上的飞溅和喷雾。几乎消除了溅回到基材上的情况。
P8000 高级线性系统以及 P9000 集群系统上也提供了洗涤器模块，并且可以与最多 5 个洗涤器模块配对，以满足极高的吞吐量要求。 P9000 型号还采用数字主轴控制器和无刷电机，可实现高精度旋转速度、更高旋转扭矩和可编程刷力。
晶圆清洗的其他选项包括：
氮气喷射清洗喷嘴，具有数字控制氮气压力的能力。
晶圆清洁器和晶圆洗涤器选项：
高压清洗
晶圆擦洗刷 – 多种选择
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