涂层/显影轨道

SOKUDO DUO 高生产率，大于 450 WPH 的双轨系统

1. 高吞吐量同时保证高可靠性

运行双并行生产线可显着提高晶圆产量。由于负载分布在两条独立的生产线之间，SOKUDO DUO 还有助于提高晶圆处理机器人的可靠性，因为它可以在不影响晶圆吞吐量的情况下降低晶圆传输速度。

2. 不间断运行提供高生产率

双流程概念使得独立运行每条晶圆生产线成为可能。可以在系统运行生产时进行维护，大大减少系统停机时间。通过保持涂层/显影工艺运行，可以优化整个光刻单元晶圆输出和生产率，从而不会浪费昂贵的光刻曝光扫描时间。

3. 占地面积小，配置灵活

双工艺线系统采用紧凑的平台设计，可显着减少占地面积。可以定制各种系统配置以匹配特定的涂层/开发应用，从而为可用的洁净室区域提供优化的晶圆输出。

4.先进光刻技术

凭借 SCREEN 30 多年的技术知识，该系统支持先进的浸没式 ArF 光刻、电子束和定向自组装 (DSA) 涂层/开发/烘烤轨道解决方案，以实现批量生产的高良率。