薄膜材料、半导体与真空工艺

Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 是我们优化的入门级沉积系统。我们的腔室设计非常适合手套箱集成。凭借增强的功能和更小的占地面积，NANO 36 提供了实惠的价格，同时保持了您对 KJLC 的期望质量。

Kurt J. Lesker Company® PRO Line PVD ​​75 是基于主力 PVD ​​75 平台的下一代薄膜沉​​积系统。 PVD 75 是一种经过验证、坚固且多功能的设计，全球有 400 多台设备投入使用。 PRO Line PVD ​​75 以原始设计的成功为基础，改进了系统基础压力和抽气时间。技术上卓越的腔室设计、具有先进编程功能的行业最佳软件控制系统、自动基板装载以及优化薄膜性能的众多功能是这种创新的一流设计所提供的一些关键优势。

Kurt J. Lesker Company® PRO Line PVD 200 是一款模块化、全功能薄膜沉积系统，可实现 8" 晶圆传输、最多 8 个溅射阴极和 eKLipse 高级控制软件。PVD 系列在全球拥有 500 多台投入使用的设备，是由 PVD 75 和 200 平台组成的经过验证、坚固耐用的多功能设计。PRO Line PVD 200 以原始设计的成功为基础，改进了系统基础压力技术上卓越的腔室设计、具有先进编程功能的业界最佳软件控制系统、自动基板装载以及优化薄膜性能的众多功能是这种创新、一流设计的一些关键优势。

AXXIS™ - 促进多种沉积技术和高效共沉积薄膜！

Kurt J. Lesker Company® Mini SPECTROS™ 是基于主力 SPECTROS 平台的下一代薄膜沉​​积系统。 SPECTROS 平台在全球范围内拥有 100 多个投入使用的设备，是一种经过验证、坚固且多功能的设计。 Mini SPECTROS 以原始设计的成功为基础，改进了系统基础压力和抽气时间。技术上卓越的腔室设计、具有先进编程能力的行业最佳软件控制系统、实时配方线程操作以及优化薄膜性能的众多功能是这种创新的一流设计所提供的一些关键优势。

Kurt J. Lesker Company® SPECTROS™ 150 是基于主力 SPECTROS 平台的下一代薄膜沉​​积系统。 SPECTROS 平台在全球范围内拥有 100 多个投入使用的设备，是一种经过验证、坚固且多功能的设计。 SPECTROS 以原始设计的成功为基础，改进了系统基础压力和抽气时间。技术上卓越的腔室设计、具有先进编程能力的行业最佳软件控制系统、实时配方线程操作以及优化薄膜性能的众多功能是这种创新的一流设计所提供的一些关键优势。

针对有机材料沉积进行了优化

Kurt J. Lesker Company® OCTOS 集群工具是经过验证的研发和试生产系统，适用于多个工艺室之间的真空传输。

Kurt J. Lesker Company® LAB Line UHV 溅射平台专为磁控溅射沉积应用而设计。专为满足 UHV 溅射工艺需求而量身定制的腔室设计、具有先进编程功能的业界最佳软件控制系统、负载锁定功能以及优化薄膜性能的众多功能都是该创新设计所提供的一些优势。

功能极其强大、先进的研究工具

Kurt J. Lesker 公司的 ALD-150LE™ 薄膜沉积系统专为超高纯度 (UHP) 热原子层沉积 (ALD) 工艺而设计。该系统专为高级研究和开发而设计，支持沉积具有高深宽比 (HAR) 功能的阻挡膜和器件的关键材料。

ALD-150LX™ 采用 Kurt J. Lesker Company® (KJLC®) 创新设计功能，包括我们的专利前体聚焦技术™ (PFT) 和我们正在申请专利的超高纯度 (UHP) 工艺能力。等离子体增强原子层沉积 (ALD) 系统专为高级研究和开发 (R&D) 应用而设计。 ALD-150LX 强调在研发层面实现和支持创新的尖端技术，它不仅可以作为独立平台，还可以在集群工具配置中提供与附加流程和分析模块的连接。

Kurt J. Lesker 公司的 PVD-BATCH 滚筒系列由两种标准尺寸（PVD 200 和 PVD ​​500）组成，可以水平或垂直配置。当颗粒物是主要问题时，优选水平配置。水平和垂直配置均可用于 3D 涂层的双轴旋转。吞吐量（按每次运行的沉积面积来衡量）范围可以从几百平方英寸到超过 2000 平方英寸，并且还可以提供更大的定制系统。

专为优化钙钛矿器件真空加工而设计的薄膜沉积平台

旨在为倒装芯片应用以更长的投射距离生产精确的铟凸块

复杂 TSV/TGV 结构的均匀、高速沉积。

Kurt J. Lesker Company (KJLC) 是真空技术领域的全球先驱，提供尖端的热真空室 (TVAC) 解决方案，旨在模拟外太空的恶劣环境。 KJLC 在真空科学领域拥有 70 多年的专业知识，在全球部署了 2,000 多个系统，提供专为小型卫星、中程航天器和大型空间硬件量身定制的可扩展 TVAC 平台。我们的 TVAC 系统模拟太空的深真空和极端热条件，以确保可靠性、性能和任务成功。 KJLC TVAC 室以工程精度、系统可靠性和以客户为中心的服务而闻名，集成了超高真空环境、热循环、太阳模拟和实时数据采集，用于航空航天组件的鉴定、验证和生命周期测试。

适用于高密度应用的精密薄膜沉积

大面积基板的高通量批处理

适用于大面积基板的高通量批量溅射系统

适用于关键应用薄膜的精密批量溅射

适用于高精度薄膜应用的先进批量溅射