产品信息

ALD-150LX™ 采用 Kurt J. Lesker Company® (KJLC®) 创新设计功能，包括我们的专利前体聚焦技术™ (PFT) 和我们正在申请专利的超高纯度 (UHP) 工艺能力。等离子体增强原子层沉积 (ALD) 系统专为高级研究和开发 (R&D) 应用而设计。 ALD-150LX 强调在研发层面实现和支持创新的尖端技术，它不仅可以作为独立平台，还可以在集群工具配置中提供与附加流程和分析模块的连接。

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超高纯度条件可实现纯氮化物和元素薄膜

ScN 的 FESEM 图像显示了沉积在 Si (100) 上的多晶立方相 ScN 薄膜的 (a) 俯视图和 (b) 横截面图。 (c) FESEM 成像的纵横比为 4:1 的 ScN 涂层沟槽。

ALD-150LX 规格

规格

价值

基材尺寸

最大150毫米

基材装载

手动、单基板加载锁、多基板加载锁、集群