ALD-150LE Thin Film Deposition System
Kurt J. Lesker 公司的 ALD-150LE™ 薄膜沉积系统专为超高纯度 (UHP) 热原子层沉积 (ALD) 工艺而设计。该系统专为高级研究和开发而设计，支持沉积具有高深宽比 (HAR) 功能的阻挡膜和器件的关键材料。
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Kurt J. Lesker 公司的 ALD-150LE™ 薄膜沉积系统专为超高纯度 (UHP) 热原子层沉积 (ALD) 工艺而设计。该系统专为高级研究和开发而设计，支持沉积具有高深宽比 (HAR) 功能的阻挡膜和器件的关键材料。
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复杂 3D 几何的原子级精度
共形 Al2O3 薄膜沉积到不同深宽比的沟槽中。图片由宾夕法尼亚州立大学 Bangzhi Liu 提供
台阶上的保形 HfO2 薄膜。图片由宾夕法尼亚州立大学 Bangzhi Liu 提供
共形 Al2O3 薄膜沉积在沟槽中。图片由宾夕法尼亚州立大学 Bangzhi Liu 提供
ALD-150LE 规格
规格
价值
基材尺寸
最大150毫米
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