SPECTROS 150 Thin Film Deposition System Platform
Kurt J. Lesker Company® SPECTROS™ 150 是基于主力 SPECTROS 平台的下一代薄膜沉积系统。 SPECTROS 平台在全球范围内拥有 100 多个投入使用的设备，是一种经过验证、坚固且多功能的设计。 SPECTROS 以原始设计的成功为基础，改进了系统基础压力和抽气时间。技术上卓越的腔室设计、具有先进编程能力的行业最佳软件控制系统、实时配方线程操作以及优化薄膜性能的众多功能是这种创新的一流设计所提供的一些关键优势。
科桥实验提供 Kurt J. Lesker SPECTROS 150 Thin Film Deposition System Platform 在全国范围内的型号核对、选型咨询、报价沟通、采购支持、安装培训和售后协同服务，价格面议。
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Kurt J. Lesker Company® SPECTROS™ 150 是基于主力 SPECTROS 平台的下一代薄膜沉积系统。 SPECTROS 平台在全球范围内拥有 100 多个投入使用的设备，是一种经过验证、坚固且多功能的设计。 SPECTROS 以原始设计的成功为基础，改进了系统基础压力和抽气时间。技术上卓越的腔室设计、具有先进编程能力的行业最佳软件控制系统、实时配方线程操作以及优化薄膜性能的众多功能是这种创新的一流设计所提供的一些关键优势。
SPECTROS 150 与以下技术兼容：
1cc 或 10cc LTE 源（除热源外最多 10 个源）
4" 热源（除了 LTE 热源外，最多还有 4 个热源）
电子束蒸发源（4袋8cc、8袋12cc、6袋20cc）
上述技术的组合也是可用的
可根据要求提供定制配置
KJLC 的软件允许用户友好地创建配方，并具有可靠、不间断的处理模块，无论计算机用户界面的状态如何，都可以完成流程。有关此直观、独特且可靠的软件包的更多信息，请参阅软件选项卡。
斯派克™ 150
伦敦帝国理工学院的研究
Brooks CTI8F 低温泵
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