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PRO Line PVD 200 Thin Film Deposition System Platform
Kurt J. Lesker Company® PRO Line PVD 200 是一款模块化、全功能薄膜沉积系统，可实现 8" 晶圆传输、最多 8 个溅射阴极和 eKLipse 高级控制软件。PVD 系列在全球拥有 500 多台投入使用的设备，是由 PVD 75 和 200 平台组成的经过验证、坚固耐用的多功能设计。PRO Line PVD 200 以原始设计的成功为基础，改进了系统基础压力技术上卓越的腔室设计、具有先进编程功能的业界最佳软件控制系统、自动基板装载以及优化薄膜性能的众多功能是这种创新、一流设计的一些关键优势。
科桥实验提供 Kurt J. Lesker PRO Line PVD 200 Thin Film Deposition System Platform 的型号核对、选型咨询、报价沟通、采购支持、安装培训和售后协同服务。
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Kurt J. Lesker Company® PRO Line PVD 200 是一款模块化、全功能薄膜沉积系统，可实现 8" 晶圆传输、最多 8 个溅射阴极和 eKLipse 高级控制软件。PVD 系列在全球拥有 500 多台投入使用的设备，是由 PVD 75 和 200 平台组成的经过验证、坚固耐用的多功能设计。PRO Line PVD 200 以原始设计的成功为基础，改进了系统基础压力技术上卓越的腔室设计、具有先进编程功能的业界最佳软件控制系统、自动基板装载以及优化薄膜性能的众多功能是这种创新、一流设计的一些关键优势。
可用型号
PVD 200 开放式框架
带负载锁的 PVD 200
PRO 系列铟 200
PVD200 双室
PVD 200 双室
规格
室
箱式腔体，304不锈钢腔体
内部尺寸选项：
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