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PRO Line PVD 75 Thin Film Deposition System Platform
Kurt J. Lesker Company® PRO Line PVD 75 是基于主力 PVD 75 平台的下一代薄膜沉积系统。 PVD 75 是一种经过验证、坚固且多功能的设计，全球有 400 多台设备投入使用。 PRO Line PVD 75 以原始设计的成功为基础，改进了系统基础压力和抽气时间。技术上卓越的腔室设计、具有先进编程功能的行业最佳软件控制系统、自动基板装载以及优化薄膜性能的众多功能是这种创新的一流设计所提供的一些关键优势。
科桥实验提供 Kurt J. Lesker PRO Line PVD 75 Thin Film Deposition System Platform 的型号核对、选型咨询、报价沟通、采购支持、安装培训和售后协同服务。
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Kurt J. Lesker Company® PRO Line PVD 75 是基于主力 PVD 75 平台的下一代薄膜沉积系统。 PVD 75 是一种经过验证、坚固且多功能的设计，全球有 400 多台设备投入使用。 PRO Line PVD 75 以原始设计的成功为基础，改进了系统基础压力和抽气时间。技术上卓越的腔室设计、具有先进编程功能的行业最佳软件控制系统、自动基板装载以及优化薄膜性能的众多功能是这种创新的一流设计所提供的一些关键优势。
PVD 75 开放式框架
带负载锁的 PVD 75
PVD 75 双室
规格
室
箱形304L不锈钢腔体
内部尺寸：15.25 英寸宽 x 16.50 英寸深 x 24 英寸高（387.4 毫米 x 419.1 毫米 x 609.6 毫米）
铝制、O 形圈密封、铰链式前检修门
沉积技术
热蒸发
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