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共 66 条 · 半导体工艺设备

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Fiji – Plasma Enhanced ALD 用于 R&D

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NEXUS IBE 离子束刻蚀 系统

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SPECTOR Large Area 离子束沉积 系统 用于 光学镀膜

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Propel HVM GaN MOCVD 系统 用于 Power, 5G RF and Photonics

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单晶圆反应器技术可为电力、5G 射频和光子学应用提供高效、高质量的基于 GaN 的器件

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半导体工艺设备
薄膜沉积与PVD系统
快速热处理与CVD/ALD系统
铁电与压电测试系统
半导体涂胶显影与晶圆处理设备
激光光谱与光子学系统
光刻、太阳模拟与计量设备
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Propel 300mm GaN MOCVD 系统 用于 5G, Photonics and CMOS

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全自动单晶圆集群系统可在 300mm 基板上生产 5G RF、光子学和先进 CMOS 器件。
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领先研究人员选择的业界最先进、高性能的研发系统
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25 年在离子束产品领域建立的领先地位造就了当今无缺陷的 EUV 掩模基板
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NEXUS IBD 离子束沉积 系统

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SPECTOR Loadlock 离子束 Sputtering 系统 用于 光学镀膜

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凭借 20 多年的大批量 MOCVD 经验,实现基于 As/P 的光子器件 Lumina® 系统基于 Veeco 行业领先的 MOCVD TurboDisc® 技术,该技术在长期运行中具有出色的均匀性和低缺陷率,可实现卓越的良率和灵活性。此外,Veeco 的专有技术可实现均匀的热控制,从而实现出色的厚度和成分均匀性。该系统提供无缝的晶圆尺寸转换,能够在直径达 8 英寸的晶圆上沉积高质量的 As/P 外延层。 Lumina 系统允许用户定制他们的系统以获得最大价值。
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TurboDisc EPIK 868 MOCVD 系统 用于 LED 量产

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领先的性能,最大的资本效率和占地面积节省
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Propel GaN MOCVD 系统 用于 R&D and 量产

Propel GaN MOCVD System for R&D and Production

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基于 Veeco 成熟的 TurboDisc 技术,加速下一代设备的工艺开发
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