












NEXUS IBD-LDD Ion Beam Deposition System
25 年在离子束产品领域建立的领先地位造就了当今无缺陷的 EUV 掩模基板
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25 年在离子束产品领域建立的领先地位造就了当今无缺陷的 EUV 掩模基板
光掩模制造需要最高水平的颗粒控制,同时沉积复杂的多层薄膜结构。 Veeco 的 Nexus IBD-LDD 离子束沉积系统解决了这一挑战。自 20 世纪 90 年代以来,Veeco 已成功服务于光掩模市场,多年的学习造就了当今最先进的系统。 IBD-LDD 系统非常适合当今 EUV 掩模基板上的钼 (Mo) 和硅 (Si) 多层沉积和钌 (Ru) 覆盖层沉积,以及需要低缺陷水平和先进薄膜的其他掩模应用。
经过生产验证的平台 最低的缺陷密度 优异的均匀性和重复性 高反射率 在同一腔室中沉积多种材料 可集成到其他工艺模块中,形成集群工具
经过生产验证的平台
最低的缺陷密度
优异的均匀性和重复性
高反射率
在同一室中沉积多种材料
可以集成到其他流程模块中成为集群工具
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