Propel HVM GaN MOCVD 系统 用于 Power, 5G RF and Photonics

产品信息

单晶圆反应器技术可为电力、5G 射频和光子学应用提供高效、高质量的基于 GaN 的器件

Veeco 的 Propel™ HVM GaN MOCVD 系统设计为独特的大批量制造单晶圆反应器集群系统，适用于基于 GaN 的功率、射频和光子器件。采用单晶圆反应器平台，能够在 150 和 200 毫米晶圆上生产一流的高质量外延膜性能，实现卓越的均匀性、可重复性和良率。 Propel HVM 系统可配置多达 6 个模块化集群室，以实现最大的生产力和灵活性，是客户代工厂或 IDM 业务的理想选择。

The single-wafer reactor is based on Veeco’s leading TurboDisc® design with breakthrough technologies, including the IsoFlange™ and SymmHeat™ , that provide laminar flow and uniform temperature profile across the entire wafer.客户可以轻松地将工艺从 Veeco 的单晶圆反应器 Propel 和 K465i™ 系统转移到 Propel HVM GaN MOCVD 平台，以实现快速开发到生产周期

台湾主要影响者任命 Veeco 为国际联盟成员，旨在实现半导体技术路线图

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