产品信息

蚀刻

蒸发

离子注入机

Plasma Ashing Enviro Luminous NA

环境

夜光NA

真空炉

最大化您的灰化产量

经过生产验证的 Optima 抗蚀剂剥离系统以最低的成本提供每平方米洁净室空间的最高吞吐量。 Optima 平台采用我们的远程 ICP 等离子体源以实现超高通量，或我们的新型紧凑型 MW 下游等离子体源以支持更广泛的工艺化学和敏感应用。该系统可配置用于 100mm – 300mm 晶圆，占地面积为 300mm，与 200mm 系统相当。该系统提供最低的 CoO；通过以较低的系统总成本提供高吞吐量，并能够替换三到七个传统灰化系统来实现。