产品信息

蚀刻多层膜深度氧化物蚀刻 RISE 系统

多层膜

深度氧化蚀刻

上升系统

蒸发

离子注入机

等离子灰化

真空炉

NLD-5700 专为精密和生产而设计，将 ULVAC 的磁中性环路放电 (NLD) 等离子体技术推向最前沿。它提供超低压、超高等离子体密度和低电子温度，以实现无与伦比的控制和效率

配备标准暗盒室并可扩展以包括对准器、蚀刻或灰化室，它可以轻松适应不断变化的工作流程需求

与传统 ICP 系统相比，NLD 方法可以对石英、玻璃、LN、LT 和晶体等具有挑战性的基材进行清洁、高精度蚀刻

卓越的可维护性和广泛的工艺多功能性（从光学器件到 MEMS、微透镜、光子学和 μ-TAS）使其成为先进制造流程的理想支柱