产品信息 scia Magna 200 用于通过沉积金属和/或介电层来进行精密晶圆涂层。凭借其可选的溅射模式和布置，系统可以根据客户的要求进行配置。此外，该系统适用于小规模研发应用以及大规模生产，采用集群布局并由软件控制自动生产。

高能光参量放大器

产品信息 scia Multi 680 专为弯曲基材上的周期性多层涂层而设计。凭借其超过 100 个多层周期的卓越工艺性能，可以沉积高精度均匀或梯度薄膜。带有独立负载锁的自动样品加载可确保非常短的加载时间和高通量。

双光参量放大器

用于软 X 射线和 EUVL 光学器件的磁控溅射。在直径达 1500 毫米的弯曲基材上进行周期性多层涂层。

非共线光参量放大器

产品信息 scia Clean 800 用于干洗重量不超过 500 公斤的 3 维形状基材。腔室的设计和功能确保了非常好的基础压力，并允许通过质谱测量来量化基板上甚至很小的残留污染物。