Multilayer Coatings for Large Substrates up to 1500 mm in dia.
用于软 X 射线和 EUVL 光学器件的磁控溅射。在直径达 1500 毫米的弯曲基材上进行周期性多层涂层。
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scia Multi 1500 专为弯曲基材上的周期性多层涂层而设计。凭借其超过 100 个多层周期的卓越工艺性能，高精度均质或梯度薄膜成为可能。具有独立处理室、缓冲室和装载室的模块化室概念同时允许工具配置方面的高度灵活性和高吞吐量。
特点和优点
通过同步线性运动和旋转旋转在弯曲基板上形成均匀或梯度薄膜
具有多个处理室和缓冲室的串联布置，可完全跨越磁控管
每个处理室有 4 个磁控管
可选用附加离子束源进行预处理
基材面朝下方向可最大限度地减少颗粒负载
应用领域
软 X 射线镜的典型多层堆叠。
用于软 X 射线和抗反射涂层的反射镜梯度多层涂层
用于光束线和分析应用的 X 射线镜多层堆叠
用于紫外和可见光光学器件的多层镀膜
原则
每个工艺模块内有 4 个磁控管的内联排列
基板在磁控管上的线性移动和基板的叠加旋转
磁控溅射利用等离子体离子轰击靶材在基材表面沉积薄膜。
详细信息
基材尺寸（最大）
直径 1500 毫米，850 公斤
溅射源
每个室 4 个矩形磁控管 (1219 mm x 89 mm)，可使用离子束源
溅射模式
连续波或脉冲模式 (6 kW) 和/或射频（6 kW，13.56 MHz）直流
基础压力
< 2 x 10-8 毫巴
系统尺寸（宽x深x高）
11.00 m x 4.20 m x 5.00 m，用于 1 个处理室（不含电气架和泵）
配置
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