产品信息

scia Multi 680 专为弯曲基材上的周期性多层涂层而设计。凭借其超过 100 个多层周期的卓越工艺性能，可以沉积高精度均匀或梯度薄膜。带有独立负载锁的自动样品加载可确保非常短的加载时间和高通量。

特点和优点

通过同步轨道和自旋旋转在弯曲基板上形成均匀或梯度薄膜

多达 7 个磁控管，每个磁控管都有独立的外壳，用于单独的气体供应和定义的粒子发射曲线

可选用附加离子束源进行预处理

基于载体的处理系统，具有装载锁和两个独立的基板位置

基材面朝下方向可最大限度地减少颗粒负载

应用领域

软 X 射线镜的典型多层堆叠。

用于软 X 射线和抗反射涂层的反射镜梯度多层涂层

用于光束线和分析应用的 X 射线镜多层堆叠

用于紫外和可见光光学器件的多层镀膜

原则

穿过磁控管的圆形基板运动，每次轨道旋转完成堆栈的一个周期

通过预先计算轨道旋转分布来补偿磁控管的各个发射分布

磁控溅射利用等离子体离子轰击靶材在基材表面沉积薄膜。

详细信息

基材尺寸（最大）

直径 680 毫米，130 公斤

溅射源

最多 6 个矩形磁控管 (610 mm x 89 mm)，可使用离子束源

溅射模式

连续波或脉冲模式 (2 kW) 和/或射频（2 kW，13.56 MHz）直流

基础压力

< 1 x 10-8 毫巴

系统尺寸（宽x深x高）

7.90 m x 4.40 m x 3.50 m（不含电气架和泵）

配置