产品信息 scia Finish 1500 用于高精度光学元件的表面形状误差校正。由于离子束源的抽气时间快和去除率高，该系统适合 24/7 运行的大批量生产。 特点和优点 长期稳定的工艺确保光学元件的可重复质量 大面积上具有出色的精度 高去除率带来高吞吐量 滑动门可轻松装载大型基材 专为大批量生产而设计，

高能光参量放大器

产品信息 scia Coat 200 在长达 200 毫米的基材上具有出色的涂层均匀性。通过使用离子束溅射沉积代替其他沉积工艺，可以获得光滑且无缺陷的薄膜。原位光学监控确保卓越的工艺稳定性。此外，该系统还能够处理晶圆以及任意形状的基板。

下一代光学参量放大器

产品信息 scia Coat 500 用于精密光学器件大型基材的均匀涂层。配方控制的沉积工艺可实现多层堆叠的可重复质量。因此，可更换的成形器系统（最多 4 个成形器）可补偿参数和/或材料相关的不均匀性效应，并能够沉积限定的梯度薄膜。

宽带 MIR 光学参量放大器

产品信息 scia Batch 350 专为 3 维形状基材的生物相容性涂层而设计。因此，载体概念能够在一批中实现不同的基板尺寸和形状。凭借其稳定、可重复且经过认证的流程，该系统满足医疗物体处理的高质量标准。

超短 UV – VIS – NIR 脉冲

产品信息 scia Cube 300 专为大面积高密度等离子体工艺而设计。该系统能够实现高速率和多种沉积参数的沉积。此外，可以使用氧或卤素化学物质进行蚀刻工艺，以实现高各向异性蚀刻和/或优化的选择性。

窄带光参量放大器

用于具有高速率和多种沉积参数的高密度等离子体工艺 (PECVD) 以及反应离子蚀刻 (RIE) 的系统。

共线光参量放大器

产品信息 scia Magna 200 用于通过沉积金属和/或介电层来进行精密晶圆涂层。凭借其可选的溅射模式和布置，系统可以根据客户的要求进行配置。此外，该系统适用于小规模研发应用以及大规模生产，采用集群布局并由软件控制自动生产。

高能光参量放大器

产品信息 scia Multi 680 专为弯曲基材上的周期性多层涂层而设计。凭借其超过 100 个多层周期的卓越工艺性能，可以沉积高精度均匀或梯度薄膜。带有独立负载锁的自动样品加载可确保非常短的加载时间和高通量。

双光参量放大器

用于软 X 射线和 EUVL 光学器件的磁控溅射。在直径达 1500 毫米的弯曲基材上进行周期性多层涂层。

非共线光参量放大器

产品信息 scia Clean 800 用于干洗重量不超过 500 公斤的 3 维形状基材。腔室的设计和功能确保了非常好的基础压力，并允许通过质谱测量来量化基板上甚至很小的残留污染物。