产品信息

scia Coat 200 在长达 200 毫米的基材上具有出色的涂层均匀性。通过使用离子束溅射沉积代替其他沉积工艺，可以获得光滑且无缺陷的薄膜。原位光学监控确保卓越的工艺稳定性。此外，该系统还能够处理晶圆以及任意形状的基板。

特点和优点

通过基材旋转和倾斜实现出色的均匀性

旋转支架上最多有 5 个水冷靶材，可进行原位更换

使用石英晶体振荡器和/或光学厚度监视器 (OTM) 和测试玻璃更换器进行配方控制的多层沉积

直接晶圆处理或通过载体处理适应可变的基板尺寸

配备350毫米离子束源作为辅助源，也可用于离子束蚀刻工艺

带包埋盒处理的单室

具有单基板装载锁的单室

应用领域

高反射镜的透射率和反射率图。沉积由氧化钽 (V) 和二氧化硅组成的四分之一波长堆叠，用于 630 nm 的高反射镜。反射率 > 99.9 %，透射率 15-20 ppm。

用于高反射层和抗反射层、带通滤波器和陷波滤波器的光学涂层

用于磁传感器（GMR、TMR、自旋电子学）的多层薄膜

高激光损伤阈值涂层

介电层和金属层的沉积

基材的原位预处理（蚀刻、清洁、平滑）

应用说明

大型基材上的介电涂层

含 Ta2O5 和 SiO2 的高反射和减反射涂层

原则

主要源将材料从靶材溅射到垂直或面朝下定向的基材上

用于预清洁基材和/或在沉积过程中提供辅助的辅助源

离子束溅射（IBS），即用离子束从靶材溅射出材料并将其沉积在基板上。

双离子束溅射 (DIBS) 使用额外的辅助离子束源来影响生长的薄膜。

离子束蚀刻 (IBE) 使用惰性气体离子准直束进行结构化或材料去除。

离子束溅射

双离子束溅射 (DIBS)

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