产品信息

scia Coat 500 用于精密光学器件大型基材的均匀涂层。配方控制的沉积工艺可实现多层堆叠的可重复质量。因此，可更换的成形器系统（最多 4 个成形器）可补偿参数和/或材料相关的不均匀性效应，并能够沉积限定的梯度薄膜。

特点和优点

线性运动带来出色的均匀性

旋转支架上最多有 6 个水冷靶材，可进行原位更换

使用石英晶体振荡器和/或光学厚度监控器 (OTM) 进行配方控制的多层沉积

线性轴系统的受控运动，用于梯度涂层或表面误差校正

可选基板加热至 250 °C 以优​​化薄膜应力

应用领域

[C+Ni]80多层堆叠的X射线反射率测量和拟合曲线。四阶布拉格峰的可见度表明单层厚度具有出色的重复性。

用于滤光片、X 射线反射镜和同步加速器反射镜的多层膜

用于高反射、抗反射和介电层的光学涂层

具有特性梯度的薄膜沉积（戈贝尔镜）

离子束平滑

一维离子束造型

应用说明

大型基材上的介电涂层

含 Ta2O5 和 SiO2 的高反射和减反射涂层

原则

主要源将材料从靶材溅射到面朝下的定向基板上

用于预清洁基材和/或在沉积过程中提供辅助的辅助源

离子束溅射（IBS），即用离子束从靶材溅射出材料并将其沉积在基板上。

双离子束溅射 (DIBS) 使用额外的辅助离子束源来影响生长的薄膜。

离子束蚀刻 (IBE) 使用惰性气体离子准直束进行结构化或材料去除。

离子束溅射

双离子束溅射

详细信息

基材尺寸（最大）

500 毫米 x 300 毫米，直径 300 毫米用于旋转