首页
产品中心

设备资源

正在整理可询价设备

同步核对品牌、型号、图片和应用方向，保持产品浏览与询价路径清晰。

实验室仪器半导体设备型号检索

微信扫码咨询13422079856

发送型号、图片或采购需求

联系我们

科桥实验面向实验室仪器采购与二手半导体设备流通场景，支持型号检索、库存核对、出售收购、维修翻新、备件确认和交付沟通。

公司：科桥实验 CladeLab

电话：13422079856

邮箱：cladelab_services@outlook.com

关于我们联系我们

实验室仪器

实验室仪器产品中心设备型号目录材料表征仪器光谱与元素分析通用实验室设备站内搜索型号

二手半导体设备

二手设备出售收购二手设备库存清单二手ASML设备二手NIKON设备二手DISCO设备二手KLA设备二手HITACHI设备二手ACCRETECH设备提交库存或出售需求

半导体工艺设备

光刻、曝光与图形化设备刻蚀、清洗与表面处理设备薄膜沉积、PVD/ALD与真空系统检测、量测与失效分析设备切割、研磨与抛光设备封装、固晶与焊线设备按工艺目录查找

应用与知识

制药质量控制介孔和大孔材料分析孔径分布与孔体积分析技术文章常见问题术语词典

© 2026 CladeLab. All rights reserved.|提交需求后协助核对库存、配置、成色、报价与交付周期|粤ICP备2026090232号-1|隐私政策

产品与参数

产品中心

按仪器类型、品牌和应用场景展示常用型号，便于初步选型；更多型号可通过设备型号目录和站内搜索继续查看。

本页用于快速浏览常用仪器和典型配置；如需查找具体型号，请进入设备型号目录或使用站内搜索。

查看设备型号目录

共 1328 条

产品分类

按仪器品类浏览

全部产品色谱质谱仪器光谱与元素分析材料表征仪器生命科学仪器样品前处理设备通用实验室设备环境食品检测工业现场检测实验室配套与耗材半导体光刻与外延设备工业 X 射线与 CT 检测设备热处理与半导体工艺炉半导体光刻与测量设备纳米光刻、电子束与离子束系统等离子工艺与薄膜测量设备表面分析仪器等离子刻蚀与沉积系统

EB掩模写入器EBM-9500

EB Mask Writer EBM-9500

EB掩模写入器EBM-9500

适用于 7nm+/5nm 节点的可变 EB 掩模写入系统“EBM-9500PLUS”。

口罩尺寸6寸
图片放置1.8nm（3σ）

DISCO DFD681划片机

DFD681划片机

二手DISCO DFD681划片机

二手DISCO DFD681划片机，面向晶圆切割、研磨抛光与后道加工场景，支持库存询价、配置核对、成色/附件确认、出售收购与交付沟通。

多 EB 掩模写入器 MBM™-2000

Multi-EB Mask Writer MBM™-2000

多 EB 掩模写入器 MBM™-2000

适用于 3nm 节点设计规则的多 EB 掩模写入器“MBM™-2000”

口罩尺寸6寸
图片放置1.4nm(３σ)

DISCO DFG841研磨机

DFG841研磨机

二手DISCO DFG841研磨机

二手DISCO DFG841研磨机，面向晶圆切割、研磨抛光与后道加工场景，支持库存询价、配置核对、成色/附件确认、出售收购与交付沟通。

第 9 / 111 页 · 共 1328 条

...7

9

...111

半导体工艺设备

薄膜沉积与PVD系统

快速热处理与CVD/ALD系统

铁电与压电测试系统

半导体涂胶显影与晶圆处理设备

激光光谱与光子学系统

光刻、太阳模拟与计量设备

晶圆键合、光刻与量测系统

晶圆检测、晶体生长与等离子工艺设备

低温、磁学与材料表征系统

薄膜沉积、PVD/ALD 与真空系统

光刻、无掩模直写与曝光系统

扫描探针、低温显微与磁测量系统

开尔文探针、表面电势与光电子系统

介电、阻抗与温控测量系统

晶圆键合、对准与键合系统

磁光克尔效应与无掩模光刻系统

离子注入系统

薄膜沉积与真空工艺系统

半导体二手设备

半导体检测量测设备

半导体沉积与热处理设备

多 EB 掩模写入器 MBM™-2000 PLUS

Multi-EB Mask Writer MBM™-2000 PLUS

多 EB 掩模写入器 MBM™-2000 PLUS

适用于 3nm+ 节点设计规则的多 EB 掩模写入器“MBM™-2000”

口罩尺寸6寸
图片放置1.3nm(３σ)

DISCO DFG8540研磨机

DFG8540研磨机

二手DISCO DFG8540研磨机

二手DISCO DFG8540研磨机，面向晶圆切割、研磨抛光与后道加工场景，支持库存询价、配置核对、成色/附件确认、出售收购与交付沟通。

EPIREVO™ G8 8”单晶圆硅基氮化镓 MOCVD

EPIREVO™ G8 8” single-wafer GaN-on-Si MOCVD

EPIREVO™ G8 8”单晶圆硅基氮化镓 MOCVD

EPIREVO™ G8 MOCVD 系统可在 8 英寸硅基板上以高生长速率沉积高质量 GaN 薄膜。 EPIREVO™ G8 可实现低成本 LED 生产以及高性能功率器件应用，这两者都有助于社会减少碳足迹。

DISCO DFG8560研磨机

DFG8560研磨机

二手DISCO DFG8560研磨机

二手DISCO DFG8560研磨机，面向晶圆切割、研磨抛光与后道加工场景，支持库存询价、配置核对、成色/附件确认、出售收购与交付沟通。

EPIREVO™ S6 6”单晶圆碳化硅外延反应器

EPIREVO™ S6 6” single-wafer SiC Epitaxial Reactor

EPIREVO™ S6 6”单晶圆碳化硅外延反应器

EPIREVO™ S6 将改进的 SiC 功率器件质量与低成本生产相结合。 EPIREVO™ S6 通过其 6 英寸产能、大于 50 µm/小时的生长速率和高温晶圆处理实现了高生产率。

DISCO DFL7161激光开槽机

DFL7161激光开槽机

二手DISCO DFL7161激光开槽机

二手DISCO DFL7161激光开槽机，面向晶圆切割、研磨抛光与后道加工场景，支持库存询价、配置核对、成色/附件确认、出售收购与交付沟通。

EPIREVO™ S8 8”单晶圆碳化硅外延反应器

EPIREVO™ S8 8” single-wafer SiC Epitaxial Reactor

EPIREVO™ S8 8”单晶圆碳化硅外延反应器

EPIREVO™ S8 通过其 8 英寸功能实现高生产率，其配置和占地面积与用于 6 英寸晶圆的 EPIREVO™ S6 相同。

DISCO DGP8761研磨机

DGP8761研磨机

二手DISCO DGP8761研磨机

二手DISCO DGP8761研磨机，面向晶圆切割、研磨抛光与后道加工场景，支持库存询价、配置核对、成色/附件确认、出售收购与交付沟通。