Multi-EB Mask Writer MBM™-2000 PLUS
适用于 3nm+ 节点设计规则的多 EB 掩模写入器“MBM™-2000”
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适用于 3nm+ 节点
MB掩模写入器MBM™-2000PLUS
适用于 3nm+ 节点设计规则的多 EB 掩模写入器“MBM™-2000”
特征
1) 260,000光束的卓越精度。
2) MBF2.0 日期格式可实现复杂曲线图案的快速写入。
3）无论复杂图案如何，都能实现高吞吐量和高精度写入。
关键参数
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