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EB Mask Writer EBM-9500
适用于 7nm+/5nm 节点的可变 EB 掩模写入系统“EBM-9500PLUS”。
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用于7nm+/5nm节点生产
EB 掩模写入器 EBM-9500PLUS
适用于 7nm+/5nm 节点的可变 EB 掩模写入系统“EBM-9500PLUS”。
特征
1) 50kV加速电压可实现更大对比度的写入。
2）多遍写入方法提高了镜头拼接的性能。
3) 低COO（拥有成本）
关键参数
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