Multi-EB Mask Writer MBM™-2000
适用于 3nm 节点设计规则的多 EB 掩模写入器“MBM™-2000”
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3nm节点设计规则
MB掩模写入器MBM™-2000
适用于 3nm 节点设计规则的多 EB 掩模写入器“MBM™-2000”
特征
1) 260,000光束的卓越精度。
2) PLDC（Pixel Level Dose Correction）技术使书写对比度更高。
3）无论复杂图案如何，都能实现高吞吐量和高精度写入。
关键参数
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