ULVAC NLD-5700 干法蚀刻系统用于半导体、电子材料和微纳加工中的等离子体刻蚀，适合干法蚀刻、表面处理和工艺验证。

ULVAC RISE Series 用于自然氧化膜去除、干法刻蚀和表面清洗，适合半导体工艺验证与材料表面处理。

ULVAC NE-5700 面向半导体工艺验证、产线补线与设备流通场景，页面整理公开资料中的型号、用途和初步选型要点，适合科研检测、材料表征、工艺验证或设备采购沟通。

ULVAC NE-950EX APIOS 面向半导体工艺验证、产线补线与设备流通场景，页面整理公开资料中的型号、用途和初步选型要点，适合科研检测、材料表征、工艺验证或设备采购沟通。

产品信息 蚀刻多层膜深度氧化物蚀刻 RISE 系统 多层膜 深度氧化蚀刻 上升系统 蒸发 离子注入机 等离子灰化 真空炉 多层膜等离子蚀刻系统 NE-550EXa是一款多用途高密度、低压等离子刻蚀系统，具有良好的均匀性和重复性。该系统能够蚀刻许多材料，包括： III-V族、金属、陶瓷和光学材料。

产品信息 蚀刻 蒸发蒸发辊涂机研发/中试生产在线系统 蒸发辊镀机 研发/中试生产 在线系统 离子注入机 等离子灰化 真空炉 氧化物沉积 这是一种批量式高真空蒸发系统，用于在基材上沉积金属和氧化物。由于该系统的操作面板具有集成控制功能，可实现自动化真空和沉积过程，因此推荐用于研发以及小规模制造。间歇式、高真空蒸发系统。

ULVAC Ei-H series 面向干法刻蚀、等离子体处理与表面清洗场景，页面整理公开资料中的型号、用途和初步选型要点，适合科研检测、材料表征、工艺验证或设备采购沟通。