UNITEMP RTP-100 快速热真空处理炉

产品信息

• RTP-100 是前装载式快速热真空处理炉，升温速率最高 150 K/sec。
• 该设备是带前装载抽屉的小占地台式多用途系统。
• 官网说明其适用于多种半导体工艺和新半导体工艺的实施。

官方特点

• 精确控制的升温速率和快速降温速率。
• 适用于最高 100 mm（4 英寸）单片晶圆或 100 mm x 100 mm 基片。
• 工艺腔体由石英玻璃制成。
• 包含一条用于氮气的质量流量控制工艺气路，流量为 5 nlm。